三星率先为DRAM存储导入EUV技术 提升效率性能
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【天极网手机频道】在半导体制造之中,光刻机是不可或缺核心设备。最先进的极紫外光刻机更多用于复杂的逻辑芯片制造,不过三星已经将极紫外光刻机应用到DRAM内存颗粒的制造当中。
三星在3月26日宣布,已经出货100万第一代10nm EUV级(D1x)DDR4 DRAM模组,并完成全球客户评估,为今后高端PC、手机、企业级服务器等应用领域开启新大门。
三星表示,将从第四代10nm级(D1a)DRAM或高端级14nm级DRAM开始全面导入EUV,明年基于D1a大规模量产DDR5和LPDDR5内存芯片,预计会使12英寸晶圆的生产率翻番。得益于EUV技术,可以在精度更高的光刻中减少多次图案化的重复步骤,并进一步提升产能。
不过,目前支持DDR5的PC平台尚未亮相,LPDDR5倒是已经逐渐铺开。三星量产的第一代EUV DDR5 DRAM单芯片容量为16Gb(2GB),地点是平泽市的V2线。
根据三星此前的预判,EUV将帮助公司至少推进到3nm尺度。
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